Решение задачи предобработки данных для изготовления фотошаблонов методом электронно-лучевой литографии

Решая задачу изготовления фотошаблонов с применением электронного луча, зачастую бывает недостаточно провести только выходной с точки зрения проектирования интегральной схемы контроль топологии стандартными средствами САПР. Особенности, связанные с механизмами управления лучом и физикой его взаимодействия с веществом, предписывают проводить дополнительный входной контроль топологических данных для верификации геометрических характеристик, связанных именно с особенностями применения электронной литографии, а также для обеспечения воспроизводимости рисунка. В данной работе представлены результаты разработки программного модуля, предназначенного для контроля топологических данных, являющихся входными для задачи изготовления фотошаблонов с применением электронного луча. Приведён перечень требований к топологии, которые должны выполняться для решения поставленной задачи, даны примеры решения задачи проверки соответствия топологии перечисленным требованиям.

1. Иванов В.В., Тельминов О.А. Подготовка управляющей информации для изготовления фотошаблонов: перспективные методы и автоматизация. Научный семинар на тему: "Коррекция эффектов оптической близости в литографии", Труды научного совета РАН, том 3 (1). 2019, с. 23-39. Доступно по адресу: https://www.niime.ru/upload/pres/70219/03.pdf (дата обращения 06.11.2025).

2. Лапшинов Б.А. Технология литографических процессов. Учебное пособие. Московский государственный институт электроники и математики. М., 2011. 95 с.

3. Тумилович, В. В. Возникновение дефектов при изготовлении фотошаблонов = Occurrence of defects the production of masks. Электронные системы и технологии: сборник материалов 61-й научной конференции аспирантов, магистрантов и студентов БГУИР, Минск, 21–25 апреля 2025 г. Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники; редкол.: Д. В. Лихаческий [и др.], Минск, 2025, с. 66-69.

4. Шахнов В.А., Зинченко Л.А., Верстов В.А., Макарчук В.В. Система визуализации и аналитической поддержки проектирования топологии СБИС для технологии двойного шаблона. Программные продукты и системы. 30. 100-104, 2016. DOI: 10.15827/0236-235X.114.100-104.

5. Yu B., Xu. X., Roy S., Lin Y., Ou J., Pan D. Design for manufacturability and reliability in extreme-scaling VLSI. Science China Information Sciences, 2016. DOI: 59. 10.1007/s11432-016-5560-6.

6. Pala N., Karabiyik M. Electron Beam Lithography (EBL). In: Bhushan, B. (eds) Encyclopedia of Nanotechnology. Springer, Dordrecht, 2012. DOI: 10.1007/978-90-481-9751-4_344.

7. Hiroshi Ozawa. Development of JBX-A9, Electron Beam Lithography System. JEOL NEWS, vol. 59, no. 1. Доступно по адресу: https://www.jeol.com/solutions/applications/details/se2024-01.php (дата обращения 07.11.2025).

8. Greibe T., Anhøj T., Johansen L., Han A. Quality control of JEOL JBX-9500FSZ e-beam lithography system in a multi-user laboratory. Microelectronic Engineering, 2016, vol. 155, pp. 25-28. DOI: 10.1016/j.mee.2016.02.003.

9. Сайт программного обеспечения Beamer компании GenISys-Gmbh. Доступно по адресу: https://www.genisys-gmbh.com/beamer.html (дата обращения: 04.11.2025).

10. Булах Д.А., Коршунов А.В. "Интерактивная среда обработки топологических данных ИС". Фундаментальные, поисковые, прикладные исследования и инновационные проекты: сборник трудов Национальной научно-практической конференции. под.ред. С.У. Увайсова, М.: Ассоциация выпускников и сотрудников ВВИА им. проф. Жуковского, 2025, с. 381-386.

11. Shalan M., Edwards T. "Building OpenLANE: A 130nm OpenROAD-based Tapeout-Proven Flow: Invited Paper", 2020 IEEE/ACM International Conference On Computer Aided Design (ICCAD), San Diego, CA, USA, 2020, pp. 1-6.

12. T. Ajayi et al., "INVITED: Toward an Open-Source Digital Flow: First Learnings from the OpenROAD Project", 2019 56th ACM/IEEE Design Automation Conference (DAC), Las Vegas, NV, USA, 2019, pp. 1-4.